SHS法合成低游离硅亚微米级β-Si_3N_4研究

本文采用SHS工艺对低游离硅(Sif<1% )亚微米级β-Si3N4 的制备进行了研究,在研究中采用细硅粉团粒作为原料,试验结果表明:用团粒为原料合成的β-Si3N4 粒度为0 71μm时,其游离硅含量为0 6 5 % ,而采用常规的硅粉为原料时,当β-Si3N4 粒度为0 6 9μm时,游离硅的含量高达1 98%。