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改性SU8光刻胶的光学特性及其工艺 被引量：3
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作者 朱军 蒋宏民 +2 位作者 陈翔 陈迪 刘景全 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期259-263,共5页
通过改变SU-8光刻胶中PAG浓度获得含不同PAG浓度的各种改性SU-8光刻胶,在对其光学性能以及最小曝光剂量的测定基础上研究改性SU-8光刻胶的光刻工艺,借助于改性SU-8光刻胶的合理设计以及背面曝光和正面曝光的结合应用提高多元材料复杂结... 通过改变SU-8光刻胶中PAG浓度获得含不同PAG浓度的各种改性SU-8光刻胶,在对其光学性能以及最小曝光剂量的测定基础上研究改性SU-8光刻胶的光刻工艺,借助于改性SU-8光刻胶的合理设计以及背面曝光和正面曝光的结合应用提高多元材料复杂结构的集成制造能力。 展开更多
关键词 最小曝光剂量 PAG 集成制造
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