纳米压印中残余胶刻蚀工艺研究

压印光刻在图形转移之后,需要去除残留在凹槽底部的胶。采用RIE工艺对紫外压印胶的刻蚀速率进行了研究。结果表明,随着气压或气体流量增大,刻蚀速率均会先增加,达到一定值后又开始下降;在刻蚀气体中加入SF_6后,会减少钻蚀,但刻蚀速率会有少许下降;而在刻蚀气体中加入少量SF_6且压强及流量较大时,各部分的刻蚀速率一致性较好。由此得到了一个优化后的刻蚀条件,反应气体:O_2+SF_6,气体流量分别为40 cm^3/min和5 cm^3/min,压强9.31 Pa,RF功率20 W,此时刻胶速率可稳定在0.8μm/min左右,且均匀性较好。

混合短链PEG硫醇自组装膜制备与蛋白质固定

采用自组装技术制备了一系列在金表面不同摩尔比的PEG硫醇混合自组装膜,并将蛋白质共价固定在膜表面。通过AFM、接触角测试仪和XPS技术对混合自组装膜和蛋白质接枝反应后表面的物理和化学性质进行了分析表征。通过抗原-抗体反应实验检验了蛋白质膜表面生物活性的相对大小。结果表明:自组装膜表面的比例组成与溶液中的组成并不完全一致。接枝后蛋白质的形貌及蛋白质膜表面粘附力分布与自组装膜的表面组分有关并会影响其与抗体的反应活性。当反应溶液中SH-PEG-OCH3/SH-PEG-COOH摩尔比为1∶6时,所形成的自组装膜的表面羧基含量最大,同时粘附力也达到最高值,蛋白质活性也最大。