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表面钝化对多晶硅绒面形貌的影响
被引量:
6
1
作者
王坤霞
冯仕猛
+6 位作者
徐华天
单以洪
田嘉彤
黄建华
杨树泉
黄璐
周利荣
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期236-239,共4页
多晶硅表面制绒技术是太阳能光伏产业亟待突破的一个关键技术.本文根据多晶硅强酸制绒的基本原理,提出了表面活性剂钝化多晶硅表面以降低硅原子与酸反应速度从而改善多晶硅绒面形貌的方法.实验研究了不同含量的添加剂对酸液刻蚀多晶硅...
多晶硅表面制绒技术是太阳能光伏产业亟待突破的一个关键技术.本文根据多晶硅强酸制绒的基本原理,提出了表面活性剂钝化多晶硅表面以降低硅原子与酸反应速度从而改善多晶硅绒面形貌的方法.实验研究了不同含量的添加剂对酸液刻蚀多晶硅绒面形貌的影响,用扫描电镜观察对应的绒面结构,用积分反射仪测量其绒面的表面反射率.实验结果表明:加入活性剂后酸液能使多晶硅表面陷阱坑分布更加均匀,并且能有效消除产生漏电流的缺陷性深沟槽,样品表面反射率比较低,其表面反射率降低到21.5%.与传统酸液腐蚀的多晶硅绒面结构相比,陷阱坑密度明显增加,这种方法在多晶硅太阳电池的生产中是有价值的.
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关键词
多晶硅
绒面技术
陷光效应
反射率
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职称材料
单晶硅表面金字塔生长过程的实验研究
被引量:
8
2
作者
田嘉彤
冯仕猛
+5 位作者
王坤霞
徐华天
刘峰
黄建华
杨树泉
裴俊
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第10期1505-1508,共4页
在普通碱液中添加一种特殊的添加剂,在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀.用扫描电子显微镜观察样品表面形貌,结果显示:单晶硅片放入加入添加剂2mL的刻蚀液中,经过10min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔,并有大面积的平滑区;刻蚀15...
在普通碱液中添加一种特殊的添加剂,在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀.用扫描电子显微镜观察样品表面形貌,结果显示:单晶硅片放入加入添加剂2mL的刻蚀液中,经过10min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔,并有大面积的平滑区;刻蚀15min后金字塔大小趋向一致,平滑区面积缩小;刻蚀20min硅片表面形成平均尺寸为2~4μm金字塔绒面结构,并且均匀性好、覆盖率高;刻蚀25min后,进入过腐蚀阶段,金字塔出现变大的现象.研究表明:与传统碱腐蚀相比,添加剂可以缩短单晶硅刻蚀时间,并获得较为理想的绒面结构,在工业上应用可以降低生产成本和生产时间,提高生产率.
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关键词
单晶硅
微结构
绒面
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职称材料
碱液刻蚀的多晶硅不同晶面微结构实验研究
被引量:
6
3
作者
王坤霞
冯仕猛
+4 位作者
徐华天
田嘉彤
杨树泉
黄建华
裴骏
《中国科学:技术科学》
EI
CSCD
北大核心
2012年第6期643-648,共6页
多晶硅碱液刻蚀技术一直是多晶硅太阳能电池研究的关键性技术之一.在普通的碱刻蚀液中加入一种添加剂,在温度78~80°C之间刻蚀多晶硅表面20min,用SEM观察多晶体硅表面结构.在多晶硅表面上首次观察到了碱液刻蚀出的密集均匀分布的陷...
多晶硅碱液刻蚀技术一直是多晶硅太阳能电池研究的关键性技术之一.在普通的碱刻蚀液中加入一种添加剂,在温度78~80°C之间刻蚀多晶硅表面20min,用SEM观察多晶体硅表面结构.在多晶硅表面上首次观察到了碱液刻蚀出的密集均匀分布的陷阱坑,只是样品不同晶面上的陷阱坑形貌稍有不同.[100]晶面上主要由纵横交错的致密的小硅山脉构成,小硅山脉之间存在长长的峡谷式的陷阱坑(沟);[110]晶面上密布大量的畸变三角形陷阱坑或矩形坑(洞);[111]晶面则分布蚯蚓状的陷阱坑.用积分反射仪测量了样品表面光反射率,在400~900nm波段平均反射率下降到20.5%.实验研究表明:添加剂能调节碱的刻蚀特性,经过添加剂调剂的碱液能在多晶硅表面刻蚀出具有良好陷光效应的绒面,添加剂调节的碱液刻蚀技术是一种有前途的多晶硅制绒技术.
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关键词
多晶硅
化学刻蚀
表面结构
陷光效应
反射率
原文传递
题名
表面钝化对多晶硅绒面形貌的影响
被引量:
6
1
作者
王坤霞
冯仕猛
徐华天
单以洪
田嘉彤
黄建华
杨树泉
黄璐
周利荣
机构
上海交通大学
物理系
上海交通大学林洋太阳能光伏研发中心
上海
航天技术研究院
上海
神舟新能源发展有限公司
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期236-239,共4页
基金
上海航天基金(No.GC072003)资助
文摘
多晶硅表面制绒技术是太阳能光伏产业亟待突破的一个关键技术.本文根据多晶硅强酸制绒的基本原理,提出了表面活性剂钝化多晶硅表面以降低硅原子与酸反应速度从而改善多晶硅绒面形貌的方法.实验研究了不同含量的添加剂对酸液刻蚀多晶硅绒面形貌的影响,用扫描电镜观察对应的绒面结构,用积分反射仪测量其绒面的表面反射率.实验结果表明:加入活性剂后酸液能使多晶硅表面陷阱坑分布更加均匀,并且能有效消除产生漏电流的缺陷性深沟槽,样品表面反射率比较低,其表面反射率降低到21.5%.与传统酸液腐蚀的多晶硅绒面结构相比,陷阱坑密度明显增加,这种方法在多晶硅太阳电池的生产中是有价值的.
关键词
多晶硅
绒面技术
陷光效应
反射率
Keywords
Multi-crystalline silicon
Surface etching
Topography
Reflectance
分类号
TM914.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
单晶硅表面金字塔生长过程的实验研究
被引量:
8
2
作者
田嘉彤
冯仕猛
王坤霞
徐华天
刘峰
黄建华
杨树泉
裴俊
机构
上海交通大学
物理系
上海交通大学林洋太阳能光伏研发中心
上海
航天技术研究院
上海
神舟新能源发展有限公司
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第10期1505-1508,共4页
基金
上海航天基金(No.GC072003)资助
文摘
在普通碱液中添加一种特殊的添加剂,在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀.用扫描电子显微镜观察样品表面形貌,结果显示:单晶硅片放入加入添加剂2mL的刻蚀液中,经过10min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔,并有大面积的平滑区;刻蚀15min后金字塔大小趋向一致,平滑区面积缩小;刻蚀20min硅片表面形成平均尺寸为2~4μm金字塔绒面结构,并且均匀性好、覆盖率高;刻蚀25min后,进入过腐蚀阶段,金字塔出现变大的现象.研究表明:与传统碱腐蚀相比,添加剂可以缩短单晶硅刻蚀时间,并获得较为理想的绒面结构,在工业上应用可以降低生产成本和生产时间,提高生产率.
关键词
单晶硅
微结构
绒面
Keywords
Single crystal Si
Micro-structure
Textured structure
分类号
O472.1 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
碱液刻蚀的多晶硅不同晶面微结构实验研究
被引量:
6
3
作者
王坤霞
冯仕猛
徐华天
田嘉彤
杨树泉
黄建华
裴骏
机构
上海交通大学
物理系
上海
航天技术研究院
上海交通大学林洋太阳能光伏研发中心
上海
神舟新能源发展有限公司
出处
《中国科学:技术科学》
EI
CSCD
北大核心
2012年第6期643-648,共6页
基金
上海航天基金(批准号:GC072003)资助项目
文摘
多晶硅碱液刻蚀技术一直是多晶硅太阳能电池研究的关键性技术之一.在普通的碱刻蚀液中加入一种添加剂,在温度78~80°C之间刻蚀多晶硅表面20min,用SEM观察多晶体硅表面结构.在多晶硅表面上首次观察到了碱液刻蚀出的密集均匀分布的陷阱坑,只是样品不同晶面上的陷阱坑形貌稍有不同.[100]晶面上主要由纵横交错的致密的小硅山脉构成,小硅山脉之间存在长长的峡谷式的陷阱坑(沟);[110]晶面上密布大量的畸变三角形陷阱坑或矩形坑(洞);[111]晶面则分布蚯蚓状的陷阱坑.用积分反射仪测量了样品表面光反射率,在400~900nm波段平均反射率下降到20.5%.实验研究表明:添加剂能调节碱的刻蚀特性,经过添加剂调剂的碱液能在多晶硅表面刻蚀出具有良好陷光效应的绒面,添加剂调节的碱液刻蚀技术是一种有前途的多晶硅制绒技术.
关键词
多晶硅
化学刻蚀
表面结构
陷光效应
反射率
分类号
TM914.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
表面钝化对多晶硅绒面形貌的影响
王坤霞
冯仕猛
徐华天
单以洪
田嘉彤
黄建华
杨树泉
黄璐
周利荣
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
6
下载PDF
职称材料
2
单晶硅表面金字塔生长过程的实验研究
田嘉彤
冯仕猛
王坤霞
徐华天
刘峰
黄建华
杨树泉
裴俊
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
8
下载PDF
职称材料
3
碱液刻蚀的多晶硅不同晶面微结构实验研究
王坤霞
冯仕猛
徐华天
田嘉彤
杨树泉
黄建华
裴骏
《中国科学:技术科学》
EI
CSCD
北大核心
2012
6
原文传递
已选择
0
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