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测定外延层电阻率的面接触方法研究
1
作者
程元生
朱坤宝
+5 位作者
夏瑞明
王凤仙
孙毅之
鲁松年
朱德平
张海明
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第4期336-345,共10页
评论了美国科学家C.C.Allen等于1966年发表的“测定外延层电阻率的点接触方法”之论文的局限性,从而提出了本法文。本方法从理论上解一维Poisson方程并与C.C.Allen法的公式相比较,获得某些公式。文中导...
评论了美国科学家C.C.Allen等于1966年发表的“测定外延层电阻率的点接触方法”之论文的局限性,从而提出了本法文。本方法从理论上解一维Poisson方程并与C.C.Allen法的公式相比较,获得某些公式。文中导出面接触方法雪崩击穿电压V^∞Nα/V^∞Bp=0.456;同时还导出了点接触方法外延层耗尽层宽度为tminp(μm)和面接触方法外延层耗尽层宽度Tmiaα(μm)的比值为Tmin...
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关键词
外延层
电阻率
点接触
硅
测量
下载PDF
职称材料
题名
测定外延层电阻率的面接触方法研究
1
作者
程元生
朱坤宝
夏瑞明
王凤仙
孙毅之
鲁松年
朱德平
张海明
机构
常熟半导体器件厂
天津电子材料研究所
上海冶炼厂硅分厂
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第4期336-345,共10页
文摘
评论了美国科学家C.C.Allen等于1966年发表的“测定外延层电阻率的点接触方法”之论文的局限性,从而提出了本法文。本方法从理论上解一维Poisson方程并与C.C.Allen法的公式相比较,获得某些公式。文中导出面接触方法雪崩击穿电压V^∞Nα/V^∞Bp=0.456;同时还导出了点接触方法外延层耗尽层宽度为tminp(μm)和面接触方法外延层耗尽层宽度Tmiaα(μm)的比值为Tmin...
关键词
外延层
电阻率
点接触
硅
测量
Keywords
Epitaxiai Layer Resistivity,Point Contact,Area Contact
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
测定外延层电阻率的面接触方法研究
程元生
朱坤宝
夏瑞明
王凤仙
孙毅之
鲁松年
朱德平
张海明
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993
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