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上海公共交通卡系统总体方案
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作者 严洪范 《电子与金系列工程信息》 2001年第3期40-44,共5页
关键词 上海公共交通卡总体方案 专用集成电路 城市交通
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一种减少金属线Al空洞的金属线溅射膜工艺
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作者 《表面技术》 EI CAS CSCD 2007年第6期11-11,共1页
本发明属于半导体集成电路制造工艺技术领域,具体涉及一种金属线溅射膜工艺。为了有效地解决金属线Al空洞问题,本发明在溅射完Al后,不溅射Ti,用N2气等离子体处理Al表面,使其表面形成一层薄的AlN膜(缓解Al和TiN之间的应力),而后... 本发明属于半导体集成电路制造工艺技术领域,具体涉及一种金属线溅射膜工艺。为了有效地解决金属线Al空洞问题,本发明在溅射完Al后,不溅射Ti,用N2气等离子体处理Al表面,使其表面形成一层薄的AlN膜(缓解Al和TiN之间的应力),而后直接溅射TiN膜,金属层结构为Ti/TiN/Al/AlN/TiN;刻蚀后金属线无需退火, 展开更多
关键词 ALN 金属线 膜工艺 溅射 空洞 半导体集成电路 TIN膜 制造工艺技术
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