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题名SiGe工艺中HBT结构ESD保护电路设计
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作者
王邦麟
苏庆
金峰
李平梁
徐向明
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机构
上海华虹neg电子有限公司
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出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第8期653-657,共5页
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文摘
为有效控制生产成本,减少工艺步骤,提出了在SiGe工艺中,用SiGe异质结双极型晶体管(HBT)代替传统二极管来实现静电放电(ESD)保护的方案。通过设计不同的HBT器件的版图结构,以及采取不同的端口连接方式,对HBT单体结构防护ESD的能力强弱和其寄生电容大小之间的关系进行了比较分析,并从中找出最优化的ESD解决方案。应用于实际电路中的验证结果表明,此方案在ESD防护能力达到人体模型(HBM)2 kV的基础上,I/O(IN/OUT输入输出)端口的寄生电容值可以做到200 fF以下,且此电容值还可通过HBT串联模式进一步降低。
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关键词
异质结双极型晶体管
锗硅
静电保护
寄生电容
射频
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Keywords
heterogeneous bipolar transistor(HBT)
SiGe
electrostatic discharge(ESD) protection
parasitic capacitance
RF
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分类号
TN322.8
[电子电信—物理电子学]
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