同步辐射软X射线多层膜反射偏振元件研究(英文)

利用多靶磁控溅射方法分别镀制了W/C和Mo/Si两种周期性结构多层膜。通过对其相关参数周期数、厚度比以及周期厚度的调整 ,使薄膜的布拉格衍射峰出现在布儒斯特角附近 ,两种多层膜的应用能量范围分别落于C的近K边处和Si的L边前。在北京同步辐射装置 3W1B光束线的软X射线光学实验站上进行了反射率的测量 ,得到W /C膜的反射率在 2 14eV时达到 4 .18% ;Mo/Si周期性多层膜的反射率在 89eV处达到 32 .3%。根据测量结果 。