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采用光学干涉方法实现高对比度聚合物发光二极管
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作者 邵明 刘宏宇 孙润光 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期292-295,共4页
为了得到高对比度的聚合物发光二极管(PLED),设计并制作了消光干涉结构位于有机层之外的新型聚合物二极管。消光干涉层的结构为:CrOx/Cr/ITO/Cr。在玻璃衬底和ITO阳极之间溅射的光学干涉层可以部分消去背景光的反射。这种方法不需要考... 为了得到高对比度的聚合物发光二极管(PLED),设计并制作了消光干涉结构位于有机层之外的新型聚合物二极管。消光干涉层的结构为:CrOx/Cr/ITO/Cr。在玻璃衬底和ITO阳极之间溅射的光学干涉层可以部分消去背景光的反射。这种方法不需要考虑光学干涉层和OLED或PLED材料之间功函数匹配,以及在溅射过程中对有机层的损伤等问题。制作的器件的对比度为14.7∶1,这比没有采用光学干涉结构的器件的对比度要高得多。结果说明新型的光学干涉结构确实起到了提高器件对比度的效果,对器件参数的进一步优化有望达到一个实用化目标。 展开更多
关键词 聚合物发光二极管 高对比度 干涉
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