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反应磁控溅射法直接制备光催化纳米TiO_2薄膜
被引量:
2
1
作者
朱四美
张贵锋
+1 位作者
侯晓多
瞧朝晖
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第4期56-61,共6页
通过优化直流反应磁控溅射沉积工艺,在氩气和氧气气氛中溅射高纯钛靶,在玻璃和不锈钢衬底上直接低温沉积出具有锐钛矿结构的TiO2薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和表面轮廓仪分析发现,当氧的体积分数在5%~20%之间变化时...
通过优化直流反应磁控溅射沉积工艺,在氩气和氧气气氛中溅射高纯钛靶,在玻璃和不锈钢衬底上直接低温沉积出具有锐钛矿结构的TiO2薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和表面轮廓仪分析发现,当氧的体积分数在5%~20%之间变化时,制得的TiO2薄膜是致密的锐钛矿结构,具有典型的锐钛矿相(101)、(004)、(112)、(211)、(220)的晶面特征峰,薄膜的晶粒尺寸随着氧含量的增加逐渐减小,其生长速率最快可达到68nm/min。在紫外光的照射下分解甲基橙实验表明,所制备的薄膜具有良好的光催化分解有机物的能力。
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关键词
TIO2薄膜
反应磁控溅射
锐钛矿
氧浓度
光催化效应
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职称材料
题名
反应磁控溅射法直接制备光催化纳米TiO_2薄膜
被引量:
2
1
作者
朱四美
张贵锋
侯晓多
瞧朝晖
机构
大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室
上海宝钢集团钢铁研究院
出处
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第4期56-61,共6页
文摘
通过优化直流反应磁控溅射沉积工艺,在氩气和氧气气氛中溅射高纯钛靶,在玻璃和不锈钢衬底上直接低温沉积出具有锐钛矿结构的TiO2薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和表面轮廓仪分析发现,当氧的体积分数在5%~20%之间变化时,制得的TiO2薄膜是致密的锐钛矿结构,具有典型的锐钛矿相(101)、(004)、(112)、(211)、(220)的晶面特征峰,薄膜的晶粒尺寸随着氧含量的增加逐渐减小,其生长速率最快可达到68nm/min。在紫外光的照射下分解甲基橙实验表明,所制备的薄膜具有良好的光催化分解有机物的能力。
关键词
TIO2薄膜
反应磁控溅射
锐钛矿
氧浓度
光催化效应
Keywords
TiO2 films
reactive magnetron sputtering
anatase
ogygen concentration
photocatalytic activity
分类号
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
反应磁控溅射法直接制备光催化纳米TiO_2薄膜
朱四美
张贵锋
侯晓多
瞧朝晖
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
2
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职称材料
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