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碲化物薄膜的附着牢固度与其显微结构的关系
被引量:
2
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作者
张素英
范滨
+4 位作者
程实平
凌洁华
周诗瑶
王葛亚
施天生
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第4期327-331,共5页
用X射线衍射(XRD)和透射电镜术(TEM)观察Si和Ge基板上PbTe、CdTe及PbGeTe单层薄膜及其与ZnS组合的多层薄膜的显微结构。
关键词
碲化物
薄膜
显微结构
附着牢固度
下载PDF
职称材料
题名
碲化物薄膜的附着牢固度与其显微结构的关系
被引量:
2
1
作者
张素英
范滨
程实平
凌洁华
周诗瑶
王葛亚
施天生
机构
中国科学院
上海
技术物理研究所
上海尼赛拉公司
上海
师范大学测试中心
中国科学院
上海
冶金研究所
出处
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第4期327-331,共5页
文摘
用X射线衍射(XRD)和透射电镜术(TEM)观察Si和Ge基板上PbTe、CdTe及PbGeTe单层薄膜及其与ZnS组合的多层薄膜的显微结构。
关键词
碲化物
薄膜
显微结构
附着牢固度
Keywords
telluride, film, microstructure, adhesion.
分类号
TN304.25 [电子电信—物理电子学]
TN305.055 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
碲化物薄膜的附着牢固度与其显微结构的关系
张素英
范滨
程实平
凌洁华
周诗瑶
王葛亚
施天生
《红外与毫米波学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999
2
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职称材料
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