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光刻机主基板的动态特性分析及优化
被引量:
5
1
作者
陈学东
郭合忠
+1 位作者
严天宏
余显忠
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第21期2524-2527,共4页
利用有限元分析理论和模态分析理论,分析了高分辨光刻机主基板的动态特性,分析结果表明主基板结构设计合理。结合模态试验,验证了主基板有限元模型的正确性。利用该有限元模型,进行了灵敏度分析,还进一步实现了主基板结构的优化设计。
关键词
主基板
有限元分析
模态试验
优化设计
下载PDF
职称材料
题名
光刻机主基板的动态特性分析及优化
被引量:
5
1
作者
陈学东
郭合忠
严天宏
余显忠
机构
华中科技大学数字制造
装备
与
技术
国家
重点实验室
上海微电子装备有限公司国家光刻设备工程技术研究中心
出处
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第21期2524-2527,共4页
基金
国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716206)
国家自然科学基金资助项目(50605025)
文摘
利用有限元分析理论和模态分析理论,分析了高分辨光刻机主基板的动态特性,分析结果表明主基板结构设计合理。结合模态试验,验证了主基板有限元模型的正确性。利用该有限元模型,进行了灵敏度分析,还进一步实现了主基板结构的优化设计。
关键词
主基板
有限元分析
模态试验
优化设计
Keywords
main--plate
finite element analysis
modal test
optimization design
分类号
TH113.1 [机械工程—机械设计及理论]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光刻机主基板的动态特性分析及优化
陈学东
郭合忠
严天宏
余显忠
《中国机械工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
5
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