射频源原子氧暴露对PET薄膜表面性能的影响

采用射频源原子氧装置对PET薄膜材料进行不同时间的暴露试验。研究了氧等离子体暴露对PET薄膜的质量损失、表面形貌、接触角的影响,并对暴露前后PET薄膜进行了红外光谱(FTIR)分析。结果表明,温度随暴露时间延长而升高,达到一定值后趋于平缓;随暴露时间延长PET薄膜的质量损失越来越大,表面形貌变得越来越粗糙,接触角先减小后增大。红外光谱分析表明,氧等离子体暴露后PET薄膜表面O-C=O、C-O等含氧基团的数量有所降低。这是由于原子氧暴露诱导的氧化和表面刻蚀。