下一代实用光刻技术——纳米压印技术

详细介绍了纳米压印技术的应用前景,对目前各种纳米压印工艺进行归纳、分类。通过 对不同工艺过程的深入比较,分析了它们的优缺点,并展望了各自的应用前景。

紫外纳米压印技术的图形转移层工艺研究

研究了紫外纳米压印技术的图形转移层工艺,通过改变膜厚进行压印对比实验,将转速控制在3000～4000r/min,成功地得到了50nm光栅结构的高保真图形,复型精度可以达到93.75%。同时阐明,纳米压印技术由于具有超高分辨率、低成本、高产量等显著特点,将成为下一代光刻技术(NGL)的主要候选者之一。

紫外纳米压印模板表面修饰工艺研究

研究紫外纳米压印技术的模板表面修饰工艺,对经过表面修饰的模板与未经修饰的模板得到的不同压印结果,通过大量实验进行对比分析,验证模板表面修饰工艺是有效控制压印结果,确保压印复型精度的关键。