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无油真空泵在半导体生产中的应用
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作者 姚培忠 《集成电路应用》 2002年第11期71-73,共3页
目前的半导体生产企业越来越多地用无油真空泵(干泵)来取代传统的旋片式真空泵(油泵),原因很简单,干泵的运行成本比油泵低得多,而且相对洁净,寿命长,在半导体生产中油泵的致命缺陷在于需使用昂贵的PFPE油。并且在CVD工艺,刻... 目前的半导体生产企业越来越多地用无油真空泵(干泵)来取代传统的旋片式真空泵(油泵),原因很简单,干泵的运行成本比油泵低得多,而且相对洁净,寿命长,在半导体生产中油泵的致命缺陷在于需使用昂贵的PFPE油。并且在CVD工艺,刻蚀,扩散等工艺上需经常做保养并换油,这使干泵无疑成为这些苛刻的半导体工艺的最佳选择。 展开更多
关键词 无油真空泵 半导体生产 氮化硅LPCVD 二氧化硅SACVD 铝刻蚀 湿法处理
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