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La修饰二维Ti_(3)C_(2)T_(x)MXene的NO_(2)传感特性研究
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作者 董明慧 张燕 +3 位作者 柳娜 申世英 赵淑萍 王亚杰 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第S02期407-413,共7页
过渡金属碳氮化物Ti_(3)C_(2)T_(x)MXene具有较大的表面积、良好的导电性和丰富的表面官能团,是制作传感器的理想材料。但是纯官能团修饰的碳化钛(Ti_(3)C_(2)T_(x))响应时间不理想、稳定性差制约了其应用。采用基于密度泛函理论的第一... 过渡金属碳氮化物Ti_(3)C_(2)T_(x)MXene具有较大的表面积、良好的导电性和丰富的表面官能团,是制作传感器的理想材料。但是纯官能团修饰的碳化钛(Ti_(3)C_(2)T_(x))响应时间不理想、稳定性差制约了其应用。采用基于密度泛函理论的第一性原理研究了La修饰二维Ti_(3)C_(2)T_(x)MXene的NO_(2)传感特性,结果表明La修饰Ti_(3)C_(2)T_(x)MXene的吸附能较未修饰前降低了20%~30%,同时吸附距离缩短,更容易转移电荷。La修饰Ti_(3)C_(2)T_(x)MXene的有效质量减小,有利于电荷转移。La修饰Ti_(3)C_(2)T_(x)的灵敏度比未修饰的灵敏度高10%~20%且衰减趋势减缓;修饰后响应和恢复时间分别缩短了10%和7%。 展开更多
关键词 Ti_(3)C_(2)T_(x)MXene 第一性原理 灵敏度 有效质量 响应和恢复时间
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Si晶体中Cu和Fe杂质在Frank型位错上的不同沉淀行为
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作者 沈波 陈鹏 +4 位作者 陈志忠 张荣 施毅 关口隆史 角野浩二 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第7期489-492,共4页
本文运用电子束感应电流技术和透射电子显微镜研究了直拉Si单晶中Cu和Fe杂质在Frank型位错上的沉淀行为.发现尽管在Si中Cu杂质浓度远高于Fe杂质,但Cu杂质不沉淀在Frank型位错上,而Fe杂质会沾污Frank... 本文运用电子束感应电流技术和透射电子显微镜研究了直拉Si单晶中Cu和Fe杂质在Frank型位错上的沉淀行为.发现尽管在Si中Cu杂质浓度远高于Fe杂质,但Cu杂质不沉淀在Frank型位错上,而Fe杂质会沾污Frank型位错.研究结果表明,样品中微小Punched-out位错的存在和Cu杂质在Si中的重复成核机制是Cu杂质不沉淀在Frank型位错上的主要原因. 展开更多
关键词 金属杂质 沉淀
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