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题名磁流变抛光驻留时间算法
被引量:6
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作者
孙希威
韩强
于大泳
刘胜
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机构
哈尔滨工程大学自动化学院
东莞出入境检验检疫局综合技术中心电器实验室
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出处
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期114-119,共6页
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基金
黑龙江省博士后基金资助项目(3236301111)
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文摘
针对磁流变抛光去除量与驻留时间呈线性关系特点,本文以Preston方程为依据,根据磁流变抛光专用机床的运动形式,提出了基于矩阵的磁流变抛光驻留时间算法,该算法通过调整各点驻留时间控制光学器件表面的去除量,达到面形误差修正的目的,适用于非球面等可用通用光学方程表示的回转对称曲面。仿真实验结果表明,采用该算法仿真加工可以使球形表面面形误差收敛至十几个纳米。通过对K9光学玻璃球面进行的磁流变抛光实验,获得了表面粗糙度Ra0.636nm的球形表面,面形精度P-V值由抛光前的158.219nm减小到52.14nm,验证了驻留时间算法的合理性。
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关键词
驻留时间
磁流变抛光
面形误差
矩阵
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Keywords
dwell time
magnetorheological finishing
surface error
matrix
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分类号
TP273.5
[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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