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抛光垫表面微细结构对抛光性能的影响试验
被引量:
1
1
作者
熊强
蔡伟明
+2 位作者
路家斌
刘文涛
李卫中
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第2期200-211,共12页
抛光垫是影响抛光加工效率和表面质量的关键因素之一,但影响规律和作用机理尚不清晰。为研究抛光垫表面微细结构对抛光性能的影响规律,制作有、无固结磨料的表面六边形微细结构抛光垫,分别对YG15硬质合金、单晶Si和单晶4H-SiC三种硬度...
抛光垫是影响抛光加工效率和表面质量的关键因素之一,但影响规律和作用机理尚不清晰。为研究抛光垫表面微细结构对抛光性能的影响规律,制作有、无固结磨料的表面六边形微细结构抛光垫,分别对YG15硬质合金、单晶Si和单晶4H-SiC三种硬度差异较大的工件进行抛光试验。结果表明:各抛光垫对不同硬度工件抛光效果的影响规律一致,随着抛光工件的硬度增大,各抛光垫的材料去除率(MRR)减小,表面粗糙度Ra增大。抛光垫内的固结磨料能将MRR提高5~10倍,但也会导致Ra增大5~20倍。抛光垫表面微细结构会使得抛光过程中有效接触面积Ap和有效磨粒数Ns减小而导致MRR下降,而抛光垫硬度的增加能够部分弥补抛光垫表面微细结构造成的影响,抛光工件硬度越大,弥补效果越好。增加游离磨料能够有效降低抛光后Ra并提高硬度较大工件的MRR(上升约8%),但对硬度较小工件的MRR有抑制作用(下降约27%)。根据抛光试验结果,建立工件-磨料-抛光垫接触模型,深入分析抛光垫表面微细结构、表面硬度对不同硬度工件抛光MRR和表面质量的作用机理,为不同工件抛光时抛光垫的选择提供了理论基础。
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关键词
抛光垫
表面微细结构
工艺参数
材料去除率
表面形貌
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职称材料
题名
抛光垫表面微细结构对抛光性能的影响试验
被引量:
1
1
作者
熊强
蔡伟明
路家斌
刘文涛
李卫中
机构
广东工业大学机电工程学院
东莞市蓝宇金刚石磨具有限公司
出处
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第2期200-211,共12页
基金
国家自然科学基金(52175385)
广东省自然科学基金(2022A1515011868)资助项目。
文摘
抛光垫是影响抛光加工效率和表面质量的关键因素之一,但影响规律和作用机理尚不清晰。为研究抛光垫表面微细结构对抛光性能的影响规律,制作有、无固结磨料的表面六边形微细结构抛光垫,分别对YG15硬质合金、单晶Si和单晶4H-SiC三种硬度差异较大的工件进行抛光试验。结果表明:各抛光垫对不同硬度工件抛光效果的影响规律一致,随着抛光工件的硬度增大,各抛光垫的材料去除率(MRR)减小,表面粗糙度Ra增大。抛光垫内的固结磨料能将MRR提高5~10倍,但也会导致Ra增大5~20倍。抛光垫表面微细结构会使得抛光过程中有效接触面积Ap和有效磨粒数Ns减小而导致MRR下降,而抛光垫硬度的增加能够部分弥补抛光垫表面微细结构造成的影响,抛光工件硬度越大,弥补效果越好。增加游离磨料能够有效降低抛光后Ra并提高硬度较大工件的MRR(上升约8%),但对硬度较小工件的MRR有抑制作用(下降约27%)。根据抛光试验结果,建立工件-磨料-抛光垫接触模型,深入分析抛光垫表面微细结构、表面硬度对不同硬度工件抛光MRR和表面质量的作用机理,为不同工件抛光时抛光垫的选择提供了理论基础。
关键词
抛光垫
表面微细结构
工艺参数
材料去除率
表面形貌
Keywords
polishing pad
surface microstructure
process parameters
material removal rate
surface morphology
分类号
TG73 [金属学及工艺—刀具与模具]
TG58 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
TQ164 [化学工程—高温制品工业]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
抛光垫表面微细结构对抛光性能的影响试验
熊强
蔡伟明
路家斌
刘文涛
李卫中
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023
1
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职称材料
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