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磁控溅射工艺控制模式比较
被引量:
1
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作者
郑舒颖
陈少扬
《光学仪器》
2001年第5期63-67,共5页
对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较 ,分析各自的特色 。
关键词
反应磁控溅射
溅射工艺控制
电介质薄膜
下载PDF
职称材料
题名
磁控溅射工艺控制模式比较
被引量:
1
1
作者
郑舒颖
陈少扬
机构
中南
实业
国际
(
深圳
)
有限公司
出处
《光学仪器》
2001年第5期63-67,共5页
文摘
对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较 ,分析各自的特色 。
关键词
反应磁控溅射
溅射工艺控制
电介质薄膜
Keywords
reactive magnetron sputtering
sputtering process control
dielectric thin films
分类号
O484.4 [理学—固体物理]
TB43 [一般工业技术]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁控溅射工艺控制模式比较
郑舒颖
陈少扬
《光学仪器》
2001
1
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职称材料
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