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磁控溅射工艺控制模式比较 被引量:1
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作者 郑舒颖 陈少扬 《光学仪器》 2001年第5期63-67,共5页
对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较 ,分析各自的特色 。
关键词 反应磁控溅射 溅射工艺控制 电介质薄膜
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