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衬底温度对形成CN_x薄膜的影响
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作者 杨兵初 陈振华 黄培云 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 1999年第5期615-619,共5页
在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。系统地研究了氮化碳薄膜的电子结构和光学性质随温度的变化规律。用富里叶变换红外光谱(FTIR)和X光电子能谱(XPS)对其化学结构及成分进行了分析。用透射紫外-可见-近红外(UV... 在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。系统地研究了氮化碳薄膜的电子结构和光学性质随温度的变化规律。用富里叶变换红外光谱(FTIR)和X光电子能谱(XPS)对其化学结构及成分进行了分析。用透射紫外-可见-近红外(UV)光谱对其光学性质进行了评价。结果表明:薄膜中最大氮原子浓度为0.4。芯能级C1s和N1s的结合能产生了4.41~0.3eV的能移。能移的大小与衬底温度密切相关,并且薄膜中的N原子浓度和芯能级结合能随衬底温度增加而减少,表明增加衬底温度不利于氯化碳薄膜的形成。UV谱表明氯化碳膜在近红外区有一个好的透明性。但在2720nm附近存在有一明税的吸收峰。当衬底温度高于400℃时,该吸收峰消失。 展开更多
关键词 超硬材料 氮化碳薄膜 射频溅射 电子结构
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