用化学溶液沉积方法在NiW基底上制备CeO_2过渡层的研究

文章采用化学溶液方法在Ni W基底上利用两步法制备了CeO2过渡层,确定了制备具有锐利双轴织构和表面质量良好的CeO2过渡层的方法及工艺条件,并利用XRD、SEM等测试手段对样品进行了分析和表征。实验结果表明,采用两步法在其第一步的升温速率为5℃/min,第二步的烧结温度为1100℃的条件下,制备出的CeO2薄膜形成了明显的面内和面外织构,且其Phi扫描和Rocking curve的半高宽值分别达到了6.68°和5.51°,通过SEM检测发现薄膜表面均匀致密。在两步法和一步法的对比过程中发现,两步法的工艺显著改善了薄膜的表面质量。