超大规模集成电路制造工艺中的光刻及掩模技术

本文着重介绍了超大规模集成电路生产工艺中的关键工艺掩模及光刻技术的国际国内概况，比较详细地叙述了1：1投影光刻技术和1：1与5：1Stepper掩模及光刻技术，并且介绍了为使光刻质量的提高，采用掩模保护膜技术的原理，对我国集成电路制造工艺的提高具有一定的参考作用。