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超大规模集成电路制造工艺中的光刻及掩模技术
被引量:
2
1
作者
游树达
《微处理机》
1996年第1期67-69,共3页
本文着重介绍了超大规模集成电路生产工艺中的关键工艺掩模及光刻技术的国际国内概况,比较详细地叙述了1:1投影光刻技术和1:1与5:1Stepper掩模及光刻技术,并且介绍了为使光刻质量的提高,采用掩模保护膜技术的原理,对我国集成电...
本文着重介绍了超大规模集成电路生产工艺中的关键工艺掩模及光刻技术的国际国内概况,比较详细地叙述了1:1投影光刻技术和1:1与5:1Stepper掩模及光刻技术,并且介绍了为使光刻质量的提高,采用掩模保护膜技术的原理,对我国集成电路制造工艺的提高具有一定的参考作用。
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关键词
VLSI
制造工艺
光刻
掩模
集成电路
下载PDF
职称材料
题名
超大规模集成电路制造工艺中的光刻及掩模技术
被引量:
2
1
作者
游树达
机构
中国华晶电子集团公司掩模制造中心
出处
《微处理机》
1996年第1期67-69,共3页
文摘
本文着重介绍了超大规模集成电路生产工艺中的关键工艺掩模及光刻技术的国际国内概况,比较详细地叙述了1:1投影光刻技术和1:1与5:1Stepper掩模及光刻技术,并且介绍了为使光刻质量的提高,采用掩模保护膜技术的原理,对我国集成电路制造工艺的提高具有一定的参考作用。
关键词
VLSI
制造工艺
光刻
掩模
集成电路
分类号
TN470.5 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
超大规模集成电路制造工艺中的光刻及掩模技术
游树达
《微处理机》
1996
2
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