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有序介孔硅片粒子表面的修饰及其表征
1
作者
邢益高
王艳丽
+4 位作者
苏海涛
崔秀国
孟万
杨福利
杨萍
《广州化学》
CAS
2009年第2期11-15,共5页
采用溶胶-凝胶的方法制备了粒径在50~300nm,具有正六边形的介孔二氧化硅片,用1,6-己二异氰酸酯(hexamethylene diisocyanate,HDI)对有序介孔硅片粒子表面进行有机化修饰,使其表面接枝能够参与反应的N=C=O活性基团。用FTIR、热...
采用溶胶-凝胶的方法制备了粒径在50~300nm,具有正六边形的介孔二氧化硅片,用1,6-己二异氰酸酯(hexamethylene diisocyanate,HDI)对有序介孔硅片粒子表面进行有机化修饰,使其表面接枝能够参与反应的N=C=O活性基团。用FTIR、热重分析、TEM等分析方法对修饰后的有序介孔硅片粒子进行了表征,以确定HDI接在了有序介孔硅片粒子的表面。
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关键词
有序介孔硅片
表面修饰
HDI
表征
下载PDF
职称材料
题名
有序介孔硅片粒子表面的修饰及其表征
1
作者
邢益高
王艳丽
苏海涛
崔秀国
孟万
杨福利
杨萍
机构
延边大学理学院
中国
石油
吉林
石化公司
延边大学工学院
中国吉林延吉卷烟厂
出处
《广州化学》
CAS
2009年第2期11-15,共5页
基金
教育部留学回国基金项目(612800-4014010013)
文摘
采用溶胶-凝胶的方法制备了粒径在50~300nm,具有正六边形的介孔二氧化硅片,用1,6-己二异氰酸酯(hexamethylene diisocyanate,HDI)对有序介孔硅片粒子表面进行有机化修饰,使其表面接枝能够参与反应的N=C=O活性基团。用FTIR、热重分析、TEM等分析方法对修饰后的有序介孔硅片粒子进行了表征,以确定HDI接在了有序介孔硅片粒子的表面。
关键词
有序介孔硅片
表面修饰
HDI
表征
Keywords
ordered mesoporoussilica, sureface-modiication, HDI, characterization
分类号
O613.72 [理学—无机化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
有序介孔硅片粒子表面的修饰及其表征
邢益高
王艳丽
苏海涛
崔秀国
孟万
杨福利
杨萍
《广州化学》
CAS
2009
0
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职称材料
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