期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
有序介孔硅片粒子表面的修饰及其表征
1
作者 邢益高 王艳丽 +4 位作者 苏海涛 崔秀国 孟万 杨福利 杨萍 《广州化学》 CAS 2009年第2期11-15,共5页
采用溶胶-凝胶的方法制备了粒径在50~300nm,具有正六边形的介孔二氧化硅片,用1,6-己二异氰酸酯(hexamethylene diisocyanate,HDI)对有序介孔硅片粒子表面进行有机化修饰,使其表面接枝能够参与反应的N=C=O活性基团。用FTIR、热... 采用溶胶-凝胶的方法制备了粒径在50~300nm,具有正六边形的介孔二氧化硅片,用1,6-己二异氰酸酯(hexamethylene diisocyanate,HDI)对有序介孔硅片粒子表面进行有机化修饰,使其表面接枝能够参与反应的N=C=O活性基团。用FTIR、热重分析、TEM等分析方法对修饰后的有序介孔硅片粒子进行了表征,以确定HDI接在了有序介孔硅片粒子的表面。 展开更多
关键词 有序介孔硅片 表面修饰 HDI 表征
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部