目的:合成一种可以反复进行钙磷离子充电、释放以防止釉质脱矿的正畸粘接剂,并探究钙磷离子充电持续时间和频率对于离子再释放效能的影响。方法:可反复进行钙磷离子充电的粘接剂由均苯四甲酸二甲基丙烯酸甘油酯(PMGDM)和乙氧基化双酚A...目的:合成一种可以反复进行钙磷离子充电、释放以防止釉质脱矿的正畸粘接剂,并探究钙磷离子充电持续时间和频率对于离子再释放效能的影响。方法:可反复进行钙磷离子充电的粘接剂由均苯四甲酸二甲基丙烯酸甘油酯(PMGDM)和乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯(EBPADMA)组成。纳米磷酸钙(NACP)以40%的质量分数混入树脂中。离体牙粘接托槽,使用万能试验机测试釉质粘接剂的抗剪切强度;在p H为4的酸性溶液中浸泡粘接剂样本,测量钙、磷离子的初期释放;再使用p H为7的充电液对释放完离子的样本进行充电,返回到p H为4的环境中测试再释放能力。结果:这种新型正畸粘接剂的抗剪切强度与商业化的正畸粘接剂无统计学差异(P>0.1)。样本在一次充电处理后,可以连续14 d持续释放钙、磷离子,而无需再次充电。离子再释放能力不会随着再充电/再释放循环次数的增加而降低(P>0.1)。14 d时离子的再释放浓度与不同的充电方式之间的关系为:1 min 3次>3 min 2次>1 min 2次>6 min 1次>3 min 1次>1 min 1次。结论:这种含NACP的可充电正畸粘接剂可以长期释放钙磷离子,抑制正畸托槽周围牙釉质脱矿。展开更多
目的研究冷热循环对CAD/CAM树脂陶瓷复合材料表面粗糙度及形貌的影响。方法以树脂陶瓷复合材料LU(Lava Ultimate),CE(Cerasmart),HY(Hyramic润瓷),VE(Vita Enamic)为实验组,以长石质玻璃陶瓷VM(Vita Mark Ⅱ)为对照组,分别在抛光即刻和...目的研究冷热循环对CAD/CAM树脂陶瓷复合材料表面粗糙度及形貌的影响。方法以树脂陶瓷复合材料LU(Lava Ultimate),CE(Cerasmart),HY(Hyramic润瓷),VE(Vita Enamic)为实验组,以长石质玻璃陶瓷VM(Vita Mark Ⅱ)为对照组,分别在抛光即刻和经10000次冷热循环后(冷热循环仪设置高温55℃,低温5℃,浸水时间为30s),测量表面粗糙度R_(a)并进行统计学分析,扫描电子显微镜(SEM)观测试件表面形貌。结果在抛光即刻,LU、CE、HY和VE组的R_(a)值在0.095~0.106μm之间,组间差异均无统计学意义(P>0.05)。VM组R_(a)值最小,为(0.054±0.014)μm,与其他4组相比差异具有统计学意义(P<0.05)。经冷热循环后,各组材料R_(a)值均增大,但与抛光即刻相比差异无统计学意义(P>0.05)。老化后,VM组R_(a)值仍小于其他4组,差异具有统计学意义(P<0.05)。SEM下表面形貌无明显变化。结论经冷热循环后,CAD/CAM树脂陶瓷复合材料和玻璃陶瓷表面微结构均较稳定。展开更多
文摘目的:合成一种可以反复进行钙磷离子充电、释放以防止釉质脱矿的正畸粘接剂,并探究钙磷离子充电持续时间和频率对于离子再释放效能的影响。方法:可反复进行钙磷离子充电的粘接剂由均苯四甲酸二甲基丙烯酸甘油酯(PMGDM)和乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯(EBPADMA)组成。纳米磷酸钙(NACP)以40%的质量分数混入树脂中。离体牙粘接托槽,使用万能试验机测试釉质粘接剂的抗剪切强度;在p H为4的酸性溶液中浸泡粘接剂样本,测量钙、磷离子的初期释放;再使用p H为7的充电液对释放完离子的样本进行充电,返回到p H为4的环境中测试再释放能力。结果:这种新型正畸粘接剂的抗剪切强度与商业化的正畸粘接剂无统计学差异(P>0.1)。样本在一次充电处理后,可以连续14 d持续释放钙、磷离子,而无需再次充电。离子再释放能力不会随着再充电/再释放循环次数的增加而降低(P>0.1)。14 d时离子的再释放浓度与不同的充电方式之间的关系为:1 min 3次>3 min 2次>1 min 2次>6 min 1次>3 min 1次>1 min 1次。结论:这种含NACP的可充电正畸粘接剂可以长期释放钙磷离子,抑制正畸托槽周围牙釉质脱矿。
文摘目的研究冷热循环对CAD/CAM树脂陶瓷复合材料表面粗糙度及形貌的影响。方法以树脂陶瓷复合材料LU(Lava Ultimate),CE(Cerasmart),HY(Hyramic润瓷),VE(Vita Enamic)为实验组,以长石质玻璃陶瓷VM(Vita Mark Ⅱ)为对照组,分别在抛光即刻和经10000次冷热循环后(冷热循环仪设置高温55℃,低温5℃,浸水时间为30s),测量表面粗糙度R_(a)并进行统计学分析,扫描电子显微镜(SEM)观测试件表面形貌。结果在抛光即刻,LU、CE、HY和VE组的R_(a)值在0.095~0.106μm之间,组间差异均无统计学意义(P>0.05)。VM组R_(a)值最小,为(0.054±0.014)μm,与其他4组相比差异具有统计学意义(P<0.05)。经冷热循环后,各组材料R_(a)值均增大,但与抛光即刻相比差异无统计学意义(P>0.05)。老化后,VM组R_(a)值仍小于其他4组,差异具有统计学意义(P<0.05)。SEM下表面形貌无明显变化。结论经冷热循环后,CAD/CAM树脂陶瓷复合材料和玻璃陶瓷表面微结构均较稳定。