钛掺杂对低辐射银膜的团聚抑制作用

以金属Ag作为红外反射功能层的低辐射多层膜受热易产生团聚,严重损害导电性与低辐射性能。本文提出在金属Ag膜层中掺杂Ti元素,研究Ti掺杂对Ag基低辐射多层膜的团聚抑制作用以及对热处理后性能的影响。采用磁控溅射制备SiN_x/Ag/Si Nx与Si Nx/Ag-Ti(1.1 at%)/Si Nx多层膜,其中Ag(Ti)层厚度为20 nm,并进行真空与非真空热处理(大气环境)。通过对比有无Ti掺杂的Ag基多层膜热处理前后的背散射电子形貌、面电阻、辐射率与透光率,发现无论真空还是非真空热处理,Ti掺杂均显著提高Ag膜的热稳定性,抑制团聚的生成。热处理后的面电阻、辐射率与透光率均显著优于未掺杂Ag基多层膜。进一步,观察背散射电子形貌随热处理温度的变化,分析了无掺杂Ag膜团聚的形成过程,并推测了Ti掺杂对Ag膜团聚的抑制机理。

介质/金属/介质透明导电多层膜的椭圆偏振光谱研究

拥有介质/金属/介质结构的透明导电多层膜的光学与电学性能优于单层透明导电氧化物膜或金属膜,且能够在低温下制备。采用磁控溅射室温制备ZnO/Ag/SiN透明导电多层膜,并进行变角度椭圆偏振光谱测量。对单层膜建立物理模型并进行拟合,获得每层膜的折射率与消光系数。由单层膜模型组建多层膜模型,使多层膜的椭圆偏振光谱拟合值与实测值相吻合。拟合结果表明,不同O_2和Ar流量比条件下制备衬底层ZnO时,功能层Ag的Drude模型中载流子浓度几乎不变,而迁移率不同。当O_2和Ar流量比使ZnO处于氧化态时,Ag层的迁移率最高,由X射线衍射分析发现,此时Ag层具有最强的结晶强度与择优取向。