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N^+注入Ti/Si_3N_4的摩擦行为研究 被引量：1
1
作者 田军 杨晓鸿 +2 位作者 陈玉峰 王齐祖 薛群基 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第2期206-209,共4页
研究了Ｓｉ３Ｎ４陶瓷材料及镀膜Ｔｉ／Ｓｉ３Ｎ４材料当Ｎ＋注入前后的摩擦学行为，考察了样品表面划痕轨迹的ＳＥＭ形貌，结合Ｘ射线衍射，对离子注入改性机理和摩擦学性能进行了探讨．
关键词 离子注入 摩擦学 氮化硅陶瓷 钛 镀膜
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