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基片温度对TiO_2薄膜表面形貌和性能的影响 被引量:6
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作者 黄永刚 陈敏 +2 位作者 李长敏 张庆瑜 黄英 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期382-385,共4页
利用射频磁控溅射设备在玻璃基片上制备TiO2薄膜,采用AFM、UV-Vis分光光度、接触角测定仪等测试手段,研究基片温度对薄膜表面形貌、粗糙度和表面性能的影响。结果表明,随着基片温度增加,薄膜表面粗糙度增大,薄膜中颗粒由无定形态逐渐向... 利用射频磁控溅射设备在玻璃基片上制备TiO2薄膜,采用AFM、UV-Vis分光光度、接触角测定仪等测试手段,研究基片温度对薄膜表面形貌、粗糙度和表面性能的影响。结果表明,随着基片温度增加,薄膜表面粗糙度增大,薄膜中颗粒由无定形态逐渐向定向排列的晶态转变,而薄膜结构、表面形貌和粗糙度的变化明显影响薄膜表面性能。最后,探讨了薄膜的生长机理。 展开更多
关键词 TIO2薄膜 基片温度 原子力显微镜 表面形貌 表面性能
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