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一种用于隔离放大器的微机械开关 被引量:1
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作者 徐爱东 郭贺军 +2 位作者 吕苗 胡小东 邹学锋 《微纳电子技术》 CAS 2002年第11期29-35,共7页
介绍了一种新型的隔离放大电路,采用微机械开关实现“飞电容”结构。这种隔离放大电路具有许多优点:电路结构简单、尺寸小、成本低、隔离电压高、电磁兼容性能优良,很容易组成多通道隔离电路等;在30V驱动电压下测试,微机械开关的延时小... 介绍了一种新型的隔离放大电路,采用微机械开关实现“飞电容”结构。这种隔离放大电路具有许多优点:电路结构简单、尺寸小、成本低、隔离电压高、电磁兼容性能优良,很容易组成多通道隔离电路等;在30V驱动电压下测试,微机械开关的延时小于50μs,隔离电压大于110V。对设计、制造出的微机械开关隔离放大器进行了测试,证明该电路的精度优于2%。 展开更多
关键词 微机械 开关 隔离放大电路 “飞电容”结构 自动化系统
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能够防止“液体桥”粘连的新型硅溶片工艺 被引量:1
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作者 郭贺军 徐爱东 +2 位作者 胡小东 刘彦青 吕苗 《微纳电子技术》 CAS 2002年第12期28-31,35,共5页
硅溶片工艺用于制造MEMS惯性传感器[1]。能够实现高深宽比、导电性好的微机械结构。我所采用这种工艺制造出多种MEMS器件,包括加速度计和陀螺等。但该工艺用于制造垂直动作结构如Z轴加速度计和开关时,成品率不高。主要失效原因是由于EP... 硅溶片工艺用于制造MEMS惯性传感器[1]。能够实现高深宽比、导电性好的微机械结构。我所采用这种工艺制造出多种MEMS器件,包括加速度计和陀螺等。但该工艺用于制造垂直动作结构如Z轴加速度计和开关时,成品率不高。主要失效原因是由于EPW腐蚀工艺、去离子水漂洗和释放工艺中出现“液体桥”而引起的粘连。本文提出一种新型硅溶片工艺来防止上述失效。结果证明可以提高成品率和一致性。 展开更多
关键词 “液体桥” 硅溶片 MEMS 抗粘连 惯性传感器
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