基于紫外纳米压印光刻的氟化混合物模板制备

不同特征尺度和不同周期的氟化混合物软复制模板,通过使用硅主模板和紫外纳米压印光刻技术制备而成。与聚二甲基硅氧烷和其他聚合物材料相比,光刻胶具有优良的性能,如优良的机械强度、低表面能和良好的热稳定性等。在紫外和热纳米压印工艺中,主模板被用作印章。实验结果表明,转移到基底上的图案与主模板非常一致。所制备的氟化混合物复制模板不仅适用于紫外纳米压印,也适用于热纳米压印,并且所加工的复制模板还可被用于制备光电器件,以实现传感、成像、探测、通信和数据存储等领域中的相关功能。