几种银纳米材料的实验室制备方法及特性分析

介绍了银纳米颗粒、银纳米球六边形阵列、一维和二维银纳米光栅的实验室制备方法,分析了各种制备方法的优缺点,以及制备过程参数对制备结果的影响。比较分析可知:化学还原法制备颗粒较为复杂、成功率低;模板法制备虽然过程复杂,但可以重复多次使用;双光束干涉刻蚀简单,但周期较大,精度不高。

射频磁控溅射制备Mg_xZn_(1-x)O薄膜

采用射频磁控溅射用x=0.00～0.45的MgxZn1-xO陶瓷靶在Si(100)和石英衬底上生长MgxZn1-xO薄膜。采用X射线衍射谱(XRD)、透射谱和光电导谱对样品进行表征。结果表明用MgxZn1-xO薄膜在x≤0.325时具有单一(002)取向的六方结构,其禁带宽度Eg随x增加而增加,薄膜表面在入射光能量大于禁带宽度时有光电响应,并且在x=0.325时得到了禁带宽度在4.9eV的MgxZn1-xO薄膜。在x>0.325时出现立方相结构,禁带宽度有所减少,说明此时已为混相薄膜。