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单个DNA分子光敏断裂过程的观察 被引量:2
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作者 李宾 汪颖 +3 位作者 胡钧 吴世英 黄一波 李民乾 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期345-347,共3页
利用荧光显微镜和冷却CCD记录单个拉直的λDNA分子在光照下逐渐断裂的动态过程.λDNA兮子经高效的YOYO-1染料染色后,用分子梳技术拉直,并使DNA链的若干局部点固定在APS修饰的玻片上,在蓝光的照射下,观察λDNA的断裂和断裂后的弹性回缩过... 利用荧光显微镜和冷却CCD记录单个拉直的λDNA分子在光照下逐渐断裂的动态过程.λDNA兮子经高效的YOYO-1染料染色后,用分子梳技术拉直,并使DNA链的若干局部点固定在APS修饰的玻片上,在蓝光的照射下,观察λDNA的断裂和断裂后的弹性回缩过程,结果表明,DNA构象的变化以及水分子的用用,有可能使DNA在光照的作用下更加容易断裂,此技术将在研究DNA弹性、DNA与染料相互怍用以及肿瘤治疗中起一定的作用. 展开更多
关键词 DNA分子 光敏断裂过程 YOYO-1染料染色 原子力显微镜 荧光显微镜 衬底修饰 分子梳技术 弹性回缩
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