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Yb∶YAG晶体的生长缺陷及位错走向 被引量:10
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作者 杨培志 邓佩珍 +1 位作者 殷之文 田玉莲 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期399-403,共5页
用同步辐射透射白光形貌相和应力双折射法研究了沿 111 方向生长的Yb∶YAG晶体的生长缺陷、晶体中的位错起源和走向。Yb∶YAG晶体中的生长缺陷主要有 :生长条纹、核心和位错等。晶体中的位错主要起源于籽晶、杂质粒子以及生长初期的晶... 用同步辐射透射白光形貌相和应力双折射法研究了沿 111 方向生长的Yb∶YAG晶体的生长缺陷、晶体中的位错起源和走向。Yb∶YAG晶体中的生长缺陷主要有 :生长条纹、核心和位错等。晶体中的位错主要起源于籽晶、杂质粒子以及生长初期的晶种和固液界面处位错成核。位错的走向垂直于生长界面 ,符合能量最低原理。采用凸界面生长工艺可以有效的消除晶体中的位错。 展开更多
关键词 YB:YAG晶体 生长缺陷 同步辐射形貌相 应力双折射 位错走向
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