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硅烷系废气的高效处理方法
被引量:
1
1
作者
齐藤纯
尹恩华
刘懋才
《低温与特气》
CAS
1986年第2期49-53,共5页
将从半导体制造设备排出的含有硅烷系气体的废气通过以固体金属氧化物为主要成分的填料层,高效率地除去该硅烷系气体,至少使浓度降低到0.5ppm以下。
关键词
硅烷系废气
常压法
减压法
金属氧化物
下载PDF
职称材料
题名
硅烷系废气的高效处理方法
被引量:
1
1
作者
齐藤纯
尹恩华
刘懋才
机构
不详
光明所
中国科学院半导体材料研究所
出处
《低温与特气》
CAS
1986年第2期49-53,共5页
文摘
将从半导体制造设备排出的含有硅烷系气体的废气通过以固体金属氧化物为主要成分的填料层,高效率地除去该硅烷系气体,至少使浓度降低到0.5ppm以下。
关键词
硅烷系废气
常压法
减压法
金属氧化物
分类号
X701.7 [环境科学与工程—环境工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
硅烷系废气的高效处理方法
齐藤纯
尹恩华
刘懋才
《低温与特气》
CAS
1986
1
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职称材料
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