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光刻法制备聚合物/液晶光栅 被引量:15
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作者 马骥 刘永刚 +2 位作者 阮圣平 任洪文 宣丽 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2003年第3期309-312,共4页
将明胶涂覆在表面经过取向处理的带有ITO电极的玻璃基板上,以紫外灯为光源,通过光掩模法,使明胶在光场的引发下发生光化学反应,样品显影刻蚀处理后呈栅状,将液晶注入光栅盒中形成聚合物/液晶光栅。该光栅衍射效率可利用电场调控。采用He... 将明胶涂覆在表面经过取向处理的带有ITO电极的玻璃基板上,以紫外灯为光源,通过光掩模法,使明胶在光场的引发下发生光化学反应,样品显影刻蚀处理后呈栅状,将液晶注入光栅盒中形成聚合物/液晶光栅。该光栅衍射效率可利用电场调控。采用He-Ne激光器对所制样品进行测试,结果表明,所制样品的栅结构较好,避免了液晶与聚合物相分离的不完全性和栅条边缘不整齐的现象。制得的光栅其第一衍射级次的开关比为87:1,显示了较好的开关能力。 展开更多
关键词 聚合物/液晶光栅 光刻法 制备 PDLC 开关比 开关能力 聚合物分散液晶
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