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高温溅射离子源及其在LC—3型高能离子注入机上的使用
1
作者
李菊生
李仪
《微细加工技术》
1991年第3期5-8,4,共5页
高温溅射离子源已用于LC—3型离子注入机,可以成功地进行全元素注入。 本文描述了该离子源的结构和使用状况,根据我们的实践,改进了源的热炉。束流到达靶上的强度从零点几微安到几个微安。
关键词
离子注入机
溅射离子源
热炉蒸发器
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职称材料
题名
高温溅射离子源及其在LC—3型高能离子注入机上的使用
1
作者
李菊生
李仪
机构
中国科学院长春物理研究所十二室
出处
《微细加工技术》
1991年第3期5-8,4,共5页
文摘
高温溅射离子源已用于LC—3型离子注入机,可以成功地进行全元素注入。 本文描述了该离子源的结构和使用状况,根据我们的实践,改进了源的热炉。束流到达靶上的强度从零点几微安到几个微安。
关键词
离子注入机
溅射离子源
热炉蒸发器
Keywords
High temperature sputtering ion source
Heat oven evaporator
Ion implanter.
分类号
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
高温溅射离子源及其在LC—3型高能离子注入机上的使用
李菊生
李仪
《微细加工技术》
1991
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