期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
基于薄片云母载基的X线掩模版的研制
1
作者
顾宁
沈浩瀛
+4 位作者
张海黔
韦钰
田扬超
胡一贯
阚娅
《微细加工技术》
1998年第2期37-40,共4页
X-ray光刻(XRL)是微/纳米光刻技术中至关重要的批量复制技术,XRL的发展在于不断对X-ray源、新型的stepper、X线掩模版以及相关处理工艺的研究进展。其中,X线掩模版不仅直接关系到XRL的分辨率水平,也...
X-ray光刻(XRL)是微/纳米光刻技术中至关重要的批量复制技术,XRL的发展在于不断对X-ray源、新型的stepper、X线掩模版以及相关处理工艺的研究进展。其中,X线掩模版不仅直接关系到XRL的分辨率水平,也极大地影响其使用效率及其费用。我们在此报道一种采用云母薄片作为载片的新型X-ray掩模版,其载片厚为8μm,自支撑能力、平直光滑度等几方面都符合高分辨率光刻的要求。基此采用新的工艺可大大简化制作步骤,降低造价,并可在0.5-1.5nm波长范围内的X-ray光刻中获得实际成功的应用。
展开更多
关键词
X线光刻
云母载基
X线掩模版
XRL
下载PDF
职称材料
题名
基于薄片云母载基的X线掩模版的研制
1
作者
顾宁
沈浩瀛
张海黔
韦钰
田扬超
胡一贯
阚娅
机构
东南
大学
分子与生物分子电子学
国家
教委
开放
研究
实验室
电子工业部第
中国科技大学同步辐射国家开放实验室
出处
《微细加工技术》
1998年第2期37-40,共4页
基金
中国科大同步辐射国家开放实验室开放课题
文摘
X-ray光刻(XRL)是微/纳米光刻技术中至关重要的批量复制技术,XRL的发展在于不断对X-ray源、新型的stepper、X线掩模版以及相关处理工艺的研究进展。其中,X线掩模版不仅直接关系到XRL的分辨率水平,也极大地影响其使用效率及其费用。我们在此报道一种采用云母薄片作为载片的新型X-ray掩模版,其载片厚为8μm,自支撑能力、平直光滑度等几方面都符合高分辨率光刻的要求。基此采用新的工艺可大大简化制作步骤,降低造价,并可在0.5-1.5nm波长范围内的X-ray光刻中获得实际成功的应用。
关键词
X线光刻
云母载基
X线掩模版
XRL
Keywords
X ray lithography (XRL)
high resolution
mica based X ray mask
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于薄片云母载基的X线掩模版的研制
顾宁
沈浩瀛
张海黔
韦钰
田扬超
胡一贯
阚娅
《微细加工技术》
1998
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部