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DRAM技术研究进展述评
1
作者
李垚
聂卫东
《微电子技术》
2000年第5期9-12,共4页
本文论述了近年来DRAM技术的研究发展情况。
关键词
DRAM
研究
单电子
下载PDF
职称材料
全温区超薄基区SiGe HBT参数特性研究
2
作者
李垚
魏同立
+1 位作者
孔德义
许居衍
《固体电子学研究与进展》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期5-7,18,共4页
分析了不同温度下超薄基区 Si Ge HBT中载流子温度及扩散系数随基区结构参数的变化 。
关键词
硅锗
异质结双极晶体管
超薄基区
温区
下载PDF
职称材料
题名
DRAM技术研究进展述评
1
作者
李垚
聂卫东
机构
中国科技大学物理系微电子室
无锡
微电子
科研中心
出处
《微电子技术》
2000年第5期9-12,共4页
文摘
本文论述了近年来DRAM技术的研究发展情况。
关键词
DRAM
研究
单电子
Keywords
DRAM
Research
Single electron device
分类号
TP333.8 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
TN432 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
全温区超薄基区SiGe HBT参数特性研究
2
作者
李垚
魏同立
孔德义
许居衍
机构
中国科技大学物理系微电子室
东南
大学
微电子
中心
中科院合肥智能所
中国
华晶
电子
集团公司
出处
《固体电子学研究与进展》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期5-7,18,共4页
文摘
分析了不同温度下超薄基区 Si Ge HBT中载流子温度及扩散系数随基区结构参数的变化 。
关键词
硅锗
异质结双极晶体管
超薄基区
温区
Keywords
Carrier concentration
Diffusion
Germanium compounds
Silicon compounds
Temperature
分类号
TN322.8 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
DRAM技术研究进展述评
李垚
聂卫东
《微电子技术》
2000
0
下载PDF
职称材料
2
全温区超薄基区SiGe HBT参数特性研究
李垚
魏同立
孔德义
许居衍
《固体电子学研究与进展》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
0
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职称材料
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