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复合磨粒抛光技术研究现状与展望 被引量:2
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作者 朱良健 滕霖 白满社 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第13期122-125,共4页
复合磨粒抛光技术具有抛光速率高、面形精度好、表面缺陷少等优点,已成为当前的研究热点。综述了复合磨粒抛光技术中核壳型复合磨粒的制备方法、表征技术和作用机理的研究现状,指出了当前复合磨粒抛光技术存在的问题与不足,并对其发展... 复合磨粒抛光技术具有抛光速率高、面形精度好、表面缺陷少等优点,已成为当前的研究热点。综述了复合磨粒抛光技术中核壳型复合磨粒的制备方法、表征技术和作用机理的研究现状,指出了当前复合磨粒抛光技术存在的问题与不足,并对其发展方向进行了展望。 展开更多
关键词 抛光 复合磨粒 核壳型
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