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使MCS—51单片机系统高可靠的措施
被引量:
1
1
作者
林平卫
《工业控制计算机》
1992年第4期40-42,共3页
造成微机系统不可靠的原因是多种多样的,如供电系统干扰、过程通道干扰和空间电磁波干扰等,均可采用稳压抗尖峰干扰电源、
关键词
MCS-51型
可靠性
微处理机
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职称材料
介质参数对电子束泵浦的KrF激光激发态泵浦率的影响
2
作者
吴选红
杨之昌
沈乃澂
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第11期820-823,共4页
对电子束泵浦的KrF激光介质之间的各种化学反应进行研究,求得KrF~*、ArF~*、Kr_2F~*等激发态的泵浦率随时间、介质压强和介质成分的变化曲线。得到介质压强的最佳值是0.8atm,最佳分压比是Ar/Kr/F_2=91.37%/8.4%/0.225%。最佳电子束...
对电子束泵浦的KrF激光介质之间的各种化学反应进行研究,求得KrF~*、ArF~*、Kr_2F~*等激发态的泵浦率随时间、介质压强和介质成分的变化曲线。得到介质压强的最佳值是0.8atm,最佳分压比是Ar/Kr/F_2=91.37%/8.4%/0.225%。最佳电子束脉宽应大于50ns。
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关键词
介质
参数
电子束泵浦
泵浦率
激光
原文传递
题名
使MCS—51单片机系统高可靠的措施
被引量:
1
1
作者
林平卫
机构
中国计量科学研究院时频处
出处
《工业控制计算机》
1992年第4期40-42,共3页
文摘
造成微机系统不可靠的原因是多种多样的,如供电系统干扰、过程通道干扰和空间电磁波干扰等,均可采用稳压抗尖峰干扰电源、
关键词
MCS-51型
可靠性
微处理机
分类号
TP368.102 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
下载PDF
职称材料
题名
介质参数对电子束泵浦的KrF激光激发态泵浦率的影响
2
作者
吴选红
杨之昌
沈乃澂
机构
复旦大学物理系
中国计量科学研究院时频处
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第11期820-823,共4页
文摘
对电子束泵浦的KrF激光介质之间的各种化学反应进行研究,求得KrF~*、ArF~*、Kr_2F~*等激发态的泵浦率随时间、介质压强和介质成分的变化曲线。得到介质压强的最佳值是0.8atm,最佳分压比是Ar/Kr/F_2=91.37%/8.4%/0.225%。最佳电子束脉宽应大于50ns。
关键词
介质
参数
电子束泵浦
泵浦率
激光
Keywords
KrF excrimer laser, collisional relaxation, vibrational relaxation,
分类号
TN245 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
使MCS—51单片机系统高可靠的措施
林平卫
《工业控制计算机》
1992
1
下载PDF
职称材料
2
介质参数对电子束泵浦的KrF激光激发态泵浦率的影响
吴选红
杨之昌
沈乃澂
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992
0
原文传递
已选择
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参考文献
引证文献
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