带气腔结构的平面静压气体轴承特性分析

采用小孔节流的平面静压气浮运动平台由于其精度高、成本低等特点被广泛应用于精密设备当中,但相对于传统轴承存在承载力和刚度低的问题,很难将其应用到高速重载的设备中。针对以小孔节流的平面静压气体轴承承载力和刚度低的问题,通常采用开设气腔和均压槽来实现高的承载力,但是气腔的结构也会对气体静压轴承产生不同影响。文中采用Fluent软件对比分析有无气腔结构对气浮平台承载能力及刚度的影响,并分析圆柱型气腔结构下气体轴承稳定性。研究结果表明:增加气腔可以提高平面静压气体轴承承载特性,但是由于开设气腔结构导致高压、气体在气腔处产生涡流,造成气浮导轨变得不稳定。在圆柱型气腔结构中供气压力越大,气体轴承稳定性越差;节流孔直径越小,气体轴承稳定性越差。

用于PCB行业的LDI设备发展状况

PCB行业向多层、高精度的HDI板、IC-载板方向发展,在这个领域里,传统曝光机已无法满足这种技术的需求,LDI正在替代传统曝光而迅速发展起来。文章介绍了当前在PCB行业中两种主流的LDI设备的技术以及发展状况。

湿法刻蚀制备微透镜阵列的影响因素

湿法刻蚀在直接制备微透镜阵列以及制备微透镜阵列复制模具中得到了广泛应用。文章从基材、刻蚀保护层、曝光方式、刻蚀液、刻蚀工艺条件几个方面,介绍其对湿法刻蚀制备凹微透镜阵列品质的影响,并给出了批量制备高良率的微透镜阵列的建议。

带有滤光光阑的微透镜阵列制备方法

文章提出了一种采用湿法刻蚀制备含滤光光阑的三明治结构微透镜阵列(MLA)的方法。该方法制备的微透镜阵列透镜一致性好,其上的滤光层能够有效遮挡杂光,极大改善了激光直写光刻系统(LDI)的曝光效果,并且该方法具有制备设备简单、制备成本低、适合大批量制备的特点。

真空预载小孔节流静压气浮轴承静态特性分析

气浮轴承是光刻机等高精度设备的关键部件,其静态特性直接决定设备精度。以真空预载小孔节流静压气浮轴承为研究对象,探究供气压力、真空度、真空腔面积比以及节流孔直径等因素对轴承静态特性的影响。研究发现气膜厚度与轴承的静态特性呈现4个方面相关性:1)当气膜厚度一定时,供气压力越大,轴承承载能力和刚度越大,最大刚度对应的气膜厚度为7~9μm;2)真空度越大,轴承承载能力越小,但真空度对轴承刚度影响较小;3)真空腔的加入使轴承承载能力下降,但为轴承提供了双向刚度,气膜厚度和真空腔面积比与轴承刚度呈负相关;4)节流孔直径越大,轴承承载能力越大,气膜厚度较小时,节流孔直径与轴承刚度呈负相关,最大刚度对应的气膜厚度为6~12μm。当气膜厚度超过20μm时,轴承刚度在上述分析情况下均趋于零。