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光学邻近效应的计算机模拟研究
1
作者
黄晓阳
杜惊雷
+1 位作者
郭永康
孙国良
《微细加工技术》
1998年第1期11-18,共8页
本文以部分相干光的衍射理论为基础,分析了掩模结构参量对衍射场分布的影响,讨论了光学邻近效应产生的物理机理,确定了其有效作用范围,为研究光学邻近效应校正打下了基础。
关键词
部分相干
光学邻近效应
计算机模拟
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职称材料
四激光束干涉光刻制造纳米级孔阵的理论分析
被引量:
13
2
作者
张锦
冯伯儒
郭永康
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期398-401,共4页
为提供一个在大范围内曝光出深亚微米甚至纳米级周期性密集图形的廉价的方法 ,研究了四激光束干涉光刻的原理 ,分析了干涉曝光的结果 ,并进行了计算机模拟 用现有的光源 ,如4 4 2nm、365nm、2 4 8nm、193nm激光 ,曝光得到的图形的临界...
为提供一个在大范围内曝光出深亚微米甚至纳米级周期性密集图形的廉价的方法 ,研究了四激光束干涉光刻的原理 ,分析了干涉曝光的结果 ,并进行了计算机模拟 用现有的光源 ,如4 4 2nm、365nm、2 4 8nm、193nm激光 ,曝光得到的图形的临界尺寸容易做到 180~ 70nm 具有实际上无限制的焦深和容易实现的大视场 适合硅基CCDs。
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关键词
纳米级孔阵
四激光束干涉光刻
微细加工光学技术
干涉曝光
计算机模拟
半导体制造业
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职称材料
一种简单的衰减相移掩模
3
作者
张锦
冯伯儒
+6 位作者
侯德胜
周崇喜
姚汉民
郭永康
陈芬
孙方
苏平
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期64-64,66,共2页
:本文介绍了一种与传统Cr掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的结构、原理和制作方法 ,提供了部分实验结果。
关键词
光刻
衰减相移掩模
相移器
单层材料
下载PDF
职称材料
题名
光学邻近效应的计算机模拟研究
1
作者
黄晓阳
杜惊雷
郭永康
孙国良
机构
四川大学物理系
中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《微细加工技术》
1998年第1期11-18,共8页
基金
国家自然科学基金
光电所微细加工光学技术国家重点实验室基金
文摘
本文以部分相干光的衍射理论为基础,分析了掩模结构参量对衍射场分布的影响,讨论了光学邻近效应产生的物理机理,确定了其有效作用范围,为研究光学邻近效应校正打下了基础。
关键词
部分相干
光学邻近效应
计算机模拟
分类号
O436 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
四激光束干涉光刻制造纳米级孔阵的理论分析
被引量:
13
2
作者
张锦
冯伯儒
郭永康
机构
四川大学物理系
中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期398-401,共4页
基金
国家自然科学基金 (60 0 760 19#)资助项目
文摘
为提供一个在大范围内曝光出深亚微米甚至纳米级周期性密集图形的廉价的方法 ,研究了四激光束干涉光刻的原理 ,分析了干涉曝光的结果 ,并进行了计算机模拟 用现有的光源 ,如4 4 2nm、365nm、2 4 8nm、193nm激光 ,曝光得到的图形的临界尺寸容易做到 180~ 70nm 具有实际上无限制的焦深和容易实现的大视场 适合硅基CCDs。
关键词
纳米级孔阵
四激光束干涉光刻
微细加工光学技术
干涉曝光
计算机模拟
半导体制造业
Keywords
Lithography
Laser interference
Interference lithography
Optical technologies for microfabrication
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
一种简单的衰减相移掩模
3
作者
张锦
冯伯儒
侯德胜
周崇喜
姚汉民
郭永康
陈芬
孙方
苏平
机构
四川大学物理系
中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期64-64,66,共2页
基金
中科院重大项目和中科院光电所所长基金资助
文摘
:本文介绍了一种与传统Cr掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的结构、原理和制作方法 ,提供了部分实验结果。
关键词
光刻
衰减相移掩模
相移器
单层材料
Keywords
photolithography,phase shifting mask,attenuated phase shifting mask
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光学邻近效应的计算机模拟研究
黄晓阳
杜惊雷
郭永康
孙国良
《微细加工技术》
1998
0
下载PDF
职称材料
2
四激光束干涉光刻制造纳米级孔阵的理论分析
张锦
冯伯儒
郭永康
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
13
下载PDF
职称材料
3
一种简单的衰减相移掩模
张锦
冯伯儒
侯德胜
周崇喜
姚汉民
郭永康
陈芬
孙方
苏平
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2000
0
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职称材料
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