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双扫描雾化喷射成形工艺过程优化控制研究
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作者 张勇 李佩桓 +2 位作者 李正栋 张国庆 倪新雷 《中国材料科技与设备》 2014年第4期18-21,共4页
本文采用“反推法”研究了雾化沉积工艺中关键参数的确定原则,并推导了双喷扫描过程中沉积平面上任意一点处金属质量流率与时间的关系。文中采用优化后的工艺参数进行了数学计算,并通过雾化沉积实验对计算结果进行了验证,对比结果证... 本文采用“反推法”研究了雾化沉积工艺中关键参数的确定原则,并推导了双喷扫描过程中沉积平面上任意一点处金属质量流率与时间的关系。文中采用优化后的工艺参数进行了数学计算,并通过雾化沉积实验对计算结果进行了验证,对比结果证明采用“反推法”确定沉积工艺参数具有很高的计算效率和准确性,同时该结果可推广应用于任意数目喷嘴的雾化沉积工艺。 展开更多
关键词 喷射成形 双扫描喷嘴 数值模拟
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