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碳化硅表面的外延Graphene 被引量:2
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作者 吴孝松 《物理》 CAS 北大核心 2009年第6期409-415,共7页
Graphene具有优异的电学性质,是非常有前途的纳米电子材料,有希望替代硅成为下一代集成电路材料.尽管目前有很多种制备Graphene的方法,但就Graphene在将来集成电路方面的应用而言,在碳化硅上的外延生长法最具潜力.文章首先从Graphene的... Graphene具有优异的电学性质,是非常有前途的纳米电子材料,有希望替代硅成为下一代集成电路材料.尽管目前有很多种制备Graphene的方法,但就Graphene在将来集成电路方面的应用而言,在碳化硅上的外延生长法最具潜力.文章首先从Graphene的能带结构开始,简单介绍为什么Graphene具有诸多优异的电学性质,比如异常霍尔效应、室温下的高迁移率、碳纳米管的弹道输运等.然后介绍这种外延生长方法及其发展现状.通过比较在不同碳化硅晶面和在不同条件下生长的Graphene的表面形貌,得出结论,在加热炉内,生长在碳化硅晶体碳面的Graphene拥有特别高的质量.最后文章着重讨论对碳面Graphene的电学表征实验.这些实验证明这种材料中的电子是狄拉克电子,同时也发现材料具有优异的电学性质. 展开更多
关键词 外延Graphene 碳化硅 狄拉克电子 手性 纳米电子学
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