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后退火对In_xGa_(1-x)As单层量子点光学性质的影响(英文)
1
作者
赵震
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第3期289-294,共6页
研究了以GaAs和Al0.15Ga0.85As为基体,当铟的摩尔分数(x)不同时,后退火对InxGa1-xAs单层量子点光致荧光(PL)谱特性的影响。后退火将导致铟含量不同的样品(x=0.23,0.37,0.50,1...
研究了以GaAs和Al0.15Ga0.85As为基体,当铟的摩尔分数(x)不同时,后退火对InxGa1-xAs单层量子点光致荧光(PL)谱特性的影响。后退火将导致铟含量不同的样品(x=0.23,0.37,0.50,1.0)的PL谱线宽度变窄和蓝移。对于GaAs基体,在700℃退火90分钟所造成的PL谱蓝移与退火30分钟相似;(仅当x=0.23时,退火90分钟所造成的PL谱蓝移小于30分钟)。对于Al0.15Ga0.85As基体,在700℃退火30分钟和90分钟,其PL谱蓝移是不同的。
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关键词
量子点
后退火工艺
铟镓砷
半导体激光器
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职称材料
题名
后退火对In_xGa_(1-x)As单层量子点光学性质的影响(英文)
1
作者
赵震
机构
俄罗斯科学院a.f.ioffe物理技术研究所
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第3期289-294,共6页
文摘
研究了以GaAs和Al0.15Ga0.85As为基体,当铟的摩尔分数(x)不同时,后退火对InxGa1-xAs单层量子点光致荧光(PL)谱特性的影响。后退火将导致铟含量不同的样品(x=0.23,0.37,0.50,1.0)的PL谱线宽度变窄和蓝移。对于GaAs基体,在700℃退火90分钟所造成的PL谱蓝移与退火30分钟相似;(仅当x=0.23时,退火90分钟所造成的PL谱蓝移小于30分钟)。对于Al0.15Ga0.85As基体,在700℃退火30分钟和90分钟,其PL谱蓝移是不同的。
关键词
量子点
后退火工艺
铟镓砷
半导体激光器
Keywords
quantum dots
post growth annealing
photoluminescence
injection semiconductor laser
分类号
TN304.F26 [电子电信—物理电子学]
O472.3 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
后退火对In_xGa_(1-x)As单层量子点光学性质的影响(英文)
赵震
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999
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