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镓聚焦离子束研磨Cu薄膜的模拟
1
作者
杨黎东
李景东
《云南师范大学学报(自然科学版)》
2009年第1期50-52,共3页
利用TR IM模拟中的蒙特卡罗方法计算了镓(Gallium)离子在Cu薄膜上的溅射产额。分析溅射产额对镓离子的数量、入射离子的能量和离子入射角度的依赖关系。
关键词
蒙特卡罗方法
溅射产额
聚焦离子束
模拟
下载PDF
职称材料
计算机中上溢数据的精确表示
2
作者
杨黎东
李景东
《云南师范大学学报(自然科学版)》
2008年第5期31-34,共4页
文章讨论了上溢的数用数组和链表表示的方法和计算过程,所使用的大数超出常规数据类型,并给出具体表示和计算。
关键词
计算机
大数
下载PDF
职称材料
题名
镓聚焦离子束研磨Cu薄膜的模拟
1
作者
杨黎东
李景东
机构
保山高等师范专科学校计科系
云南省电子工业研究所
出处
《云南师范大学学报(自然科学版)》
2009年第1期50-52,共3页
文摘
利用TR IM模拟中的蒙特卡罗方法计算了镓(Gallium)离子在Cu薄膜上的溅射产额。分析溅射产额对镓离子的数量、入射离子的能量和离子入射角度的依赖关系。
关键词
蒙特卡罗方法
溅射产额
聚焦离子束
模拟
Keywords
Monte Carlo method
sputtering yield
Focused Ion Beam
Simulation
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TN383.1 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
计算机中上溢数据的精确表示
2
作者
杨黎东
李景东
机构
保山高等师范专科学校计科系
云南省电子工业研究所
出处
《云南师范大学学报(自然科学版)》
2008年第5期31-34,共4页
文摘
文章讨论了上溢的数用数组和链表表示的方法和计算过程,所使用的大数超出常规数据类型,并给出具体表示和计算。
关键词
计算机
大数
Keywords
Computer, Overflow Number
分类号
TP301.6 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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职称材料
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作者
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1
镓聚焦离子束研磨Cu薄膜的模拟
杨黎东
李景东
《云南师范大学学报(自然科学版)》
2009
0
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职称材料
2
计算机中上溢数据的精确表示
杨黎东
李景东
《云南师范大学学报(自然科学版)》
2008
0
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