电气工程及其自动化技术的设计与应用

电气工程及其自动化技术通过精确控制和流程优化,自动化技术显著提升了系统性能。文章分析了传感器技术、控制器设计、执行机构和通信网络等关键技术,并结合广西某智能工厂升级项目展示了自动化系统设计、实施与调试的全过程。研究结果表明,自动化技术能显著提高生产效率、产品质量和系统稳定性,同时降低能耗和运营成本。

电气工程及自动化技术在建筑施工中的应用

随着科技的发展和社会的进步,建筑施工中传统的施工方式已无法满足对效率和安全性的要求。电气工程及自动化技术的引入不仅能够提高施工过程的效率和质量,还能够增加施工现场的安全性。本文将探讨电气工程及自动化技术在建筑施工中的应用,从而全面了解其对建筑行业的重要性和影响,以期为相关从业人员提供一定参考和借鉴。

沉积温度对AZO薄膜性能的影响

在采用直流磁控溅射制备AZO(Aluminum Doped Zinc Oxide,掺铝氧化锌)薄膜的过程中,AZO薄膜的光电性能取决于镀膜过程中的各种工艺参数,包括溅射气压、沉积温度、溅射功率和靶基距等。本文主要研究在固定其它工艺参数不变的情况下,通过改变沉积温度在不同的温度下分别制备AZO薄膜,利用SEM、X射线衍射仪等测试不同AZO薄膜的微观结构,并分析研究不同沉积温度下制备AZO薄膜光电性能及结构的变化特性,以筛选出制备高质量AZO膜的最佳沉积温度。

磁控溅射法制备氮化硅薄膜的耐磨性研究

氮化硅(Si_3N_4)薄膜具有化学稳定性高、电阻率高、绝缘性好、光学性能良好(其折射率在2.0左右)等特性。同时氮化硅膜是一种很好的耐磨材料,其铅笔硬度理论上可以达到9H以上,通过在其它的镀膜产品上加镀一层氮化硅膜,可有效改善原有镀膜产品的耐磨性,避免膜层出现膜面划伤而造成的外观不良。本文主要研究采用中频磁控反应溅射制备氮化硅薄膜,氮化硅薄膜的耐磨性能取决于镀膜过程中的各种工艺参数,包括:N_2/Ar比、沉积温度、溅射功率、膜层厚度2等。通过对不同工艺条件下镀制的氮化硅薄膜的耐磨性及膜层结构进行对比,筛选出具有优良耐磨性能的氮化硅薄膜的工艺参数。

磁控溅射AZO工艺中沉积温度的研究

在采用磁控溅射制备AZO薄膜的过程中,AZO薄膜的光电性能取决于镀膜过程中的各种工艺参数,包括:溅射气压、沉积温度、溅射功率、靶基距等。本文主要研究在固定其它工艺参数不变的情况下,通过改变玻璃基板沉积温度在200℃、250℃、300℃、350℃、400℃、450℃、500℃的情况下分别制备AZO薄膜,通过分析研究玻璃基板沉积温度变化对制备AZO薄膜光电性能及结构的影响,筛选出制备高质量AZO膜的最佳沉积温度。

低电阻率高透过率AZO薄膜的探讨与制备

随着触控技术在电子显示领域的应用,传统透明导电氧化物ITO的需求量逐年提高。由于铟储量有限、价格昂贵,且属重金属元素,环境友好度低,而同样属于透明导电氧化物的AZO,也具有优异的光电性能,且资源丰富、价格低廉,无污染。作为ITO的一种替代材料,正在成为研究的热点。本文主要探讨与制备高透过率和低电阻率的AZO。

超白玻璃易霉变机理及对策研究

1引言随着世界不可再生化石燃料的日益枯竭，各国政府都提出了发展新能源产业的战略。太阳能以其用之不竭的优势成为了新能源产业的主角。早些年，以晶体硅技术为核心的太阳能产业对玻璃的需求主要是压延超白玻璃；近年，随着薄膜太阳能技术（TCO）的日益成熟，对平板超白玻璃的需求在急剧增加。