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用组合靶溅射制备Nd_2Fe_(14)B薄膜的研究 被引量：2
1
作者 赵强 松本光功 森迫昭光 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期150-151,154,共3页
采用单质Ｆｅ、Ｎｄ、Ｂ组成的靶，用对向靶溅射系统制备出了含有Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ相的薄膜。发现Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ相能够较好地形成的基板温度范围是５００℃～６００℃。并且相对于热氧化硅基板（ＳｉＯ２／Ｓｉ）。
关键词 ND2FE14B 永磁薄膜 基板温度 组合靶溅射
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