酸性硅溶胶制备和用途

本发明提供一种酸性二氧化硅溶胶，其特征在于：包括水和分散于水中的以硅粉为原料制得的粒径为纳米级或亚微米级的二氧化硅胶体，溶胶的pH值为1．5-3．5，铜离子含量≤50ppb。该溶胶具有高稳定性和高纯度的特点，能够适用于电子行业、半导体、硬盘、化合物晶体、精密光学器件等的化学机械抛光（CMP），因其低铜含量特别在半导体抛光领域有优势。本发明还提供上述酸性二氧化硅溶胶的制备方法和用途。

CN200610114373．7一种纳米单晶金刚石及其制造方法

本发明提供一种能够用于高精度抛光加工的纳米单晶金刚石，例如，用于电脑硬盘的纹理加工等，其特征在于：该纳米单晶金刚石是将粒度大于纳米级的单晶金刚石颗粒通过球磨粉碎制成。本发明还提供一种上述纳米单晶金刚石的制造方法，包括以下步骤：步骤1，将粒度大于纳米级的单晶金刚石颗粒进行球磨粉碎，得到包含有纳米单晶金刚石的微粉；步骤2，对微粉进行酸碱处理，以分别去除金属、石墨和硅杂质；

纳米金刚石分级方法的研究

报道了纳米金刚石的分级研究。研究发现，分级效果与其分散性关系极大，该研究采用物理与化学方法相结合的方式改善纳米金刚石在水中的分散性，然后采用离心力场对纳米金刚石进行分级，在一定的实验条件下，通过控制分离因素即转速，三次离心分级可得到纳米级的纳米金刚石微粉（D50=50nm）。