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金属In与掺Nb的SrTiO_3金属半导体接触研究
1
作者
王世奇
马玉彬
《北京大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第1期19-22,共4页
研究了金属In与掺不同Nb浓度的SrTiO3(Nb-STO)衬底之间构成的金属半导体结(金-半结)。测量了不同温度下的I-V曲线。在掺杂浓度为0.05wt.%衬底构成的金-半结I-V曲线中,反向电压部分得到的有效因子n在1.05~1.10之间,且随温度变化很小,而...
研究了金属In与掺不同Nb浓度的SrTiO3(Nb-STO)衬底之间构成的金属半导体结(金-半结)。测量了不同温度下的I-V曲线。在掺杂浓度为0.05wt.%衬底构成的金-半结I-V曲线中,反向电压部分得到的有效因子n在1.05~1.10之间,且随温度变化很小,而正向的n很大,表明出势垒随着偏压的变化改变很大。金属In与Nb-STO衬底之间构成的金-半结在浓度为0.05wt.%和0.7wt.%的掺杂情况下,结点都表现出非线性的I-V关系,均不能视为欧姆接触。
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关键词
Nb掺杂SrTiO3
金属-半导体接触
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职称材料
题名
金属In与掺Nb的SrTiO_3金属半导体接触研究
1
作者
王世奇
马玉彬
机构
北京大学物理学院系
出处
《北京大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第1期19-22,共4页
文摘
研究了金属In与掺不同Nb浓度的SrTiO3(Nb-STO)衬底之间构成的金属半导体结(金-半结)。测量了不同温度下的I-V曲线。在掺杂浓度为0.05wt.%衬底构成的金-半结I-V曲线中,反向电压部分得到的有效因子n在1.05~1.10之间,且随温度变化很小,而正向的n很大,表明出势垒随着偏压的变化改变很大。金属In与Nb-STO衬底之间构成的金-半结在浓度为0.05wt.%和0.7wt.%的掺杂情况下,结点都表现出非线性的I-V关系,均不能视为欧姆接触。
关键词
Nb掺杂SrTiO3
金属-半导体接触
Keywords
Niobium doped SrTiO3
metal-semiconductor contact
分类号
O472 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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操作
1
金属In与掺Nb的SrTiO_3金属半导体接触研究
王世奇
马玉彬
《北京大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
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