旋转圆盘空蚀试验中的硅材料破坏过程研究

利用自制旋转圆盘空蚀试验装置,以流动自来水为介质,对磨片、化抛片、抛光片和刻蚀片等4种硅片进行连续8 h试验以及对磨片进行连续14 h跟踪观察试验,研究硅材料的微观破坏过程,并利用扫描电子显微镜、触针式表面形貌仪和原子力显微镜对其表面微观形貌进行分析.结果表明:经连续8 h空蚀试验后,磨片原始表面的片状层基本消失,表面破坏程度最严重,化抛片次之,其表面尖锐的边缘发生了钝化,抛光片和刻蚀片的表面变化不大;化抛片的表面粗糙度Ra值由227.79 nm降至173.31 nm,抛光片的Ra值由0.483 nm增加至3.455 nm,磨片在14 h试验后其Ra值由0.3304μm降至0.1965μm;一定尺度的表面微观形貌对硅材料产生显著影响.

一水硬铝石等离子喷涂-激光重熔氧化铝陶瓷涂层的制备

以一水硬铝石为原料,利用等离子喷涂激光重熔技术制备了氧化铝陶瓷涂层。扫描电子显微镜和X射线衍射分析表明:所制备涂层 具有良好的显微结构。涂层显微硬度HV可达12.14GPa。与一水硬铝石常规热分解直接生成αAl2O3不同,涂层制备过程中存在过渡相 γAl2O3,其原因在于等离子喷涂过程中一水硬铝石经历了高温高压及快速凝固过程。探讨了一水硬铝石热分解反应理论。